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廣田 耕一; 酒井 洋樹*; 鷲尾 方一*; 小嶋 拓治
Industrial & Engineering Chemistry Research, 43(5), p.1185 - 1191, 2004/03
被引用回数：46 パーセンタイル：79.46(Engineering, Chemical)電子ビーム技術はVOC処理として有望な方法である。この技術の実用化のため、その指標となる90%以上の分解処理に必要なエネルギー(吸収線量)を求めた。実験室レベルで20種のVOCに対して電子ビーム照射を行った結果、そのエネルギーは、化学構造に関係し、OHラジカルとの速度定数から推測できることがわかった。この結果をもとに仕様を決めて行ったコスト分析では、自己遮蔽型の電子加速器と反応器を1つのユニットにすることにより、電子ビーム処理システムの設備コストを低減できることを明らかにした。
廣田 耕一; 箱田 照幸; 田口 光正; 瀧上 眞知子*; 小嶋 拓治
Proceedings of 9th International Conference on Radiation Curing (RadTech Asia '03) (CD-ROM), 4 Pages, 2003/00
流量1,000m
/hN,温度200度の条件で、ダイオキシン類を含むごみ燃焼排煙に電子ビームを照射した。その結果、吸収線量の増加に伴いダイオキシン類の分解率が高くなり、14kGyでその値は90%に達した。また、ダイオキシンとフランの分解挙動について考察を行った。
河西 俊一; 清水 雄一; 杉本 俊一; 鈴木 伸武
Polymer, 32(6), p.979 - 983, 1991/00
被引用回数：11 パーセンタイル：52.87(Polymer Science)ポリプロピレン(PP)およびエチレンテトラフルオロエチレン(ETFE)共重合体フィルムに対するArFおよびKrFエキシマレーザーからの高強度紫外光照射効果を検討し、電子線照射の場合と比較した。PPにKrFレーザー光、または電子線を照射すると高分子の劣化が観測されたが、ArFレーザー光の照射では高分子は劣化せず、老化防止剤としてPPに添加されているBHTの選択的分解が起こった。一方、ETFEでは、ArFレーザー光および電子線照射では高分子に酸化物や二重結合が生成したが、KrF光照射では高分子の炭化が観測された。この効果の差は、これらの照射により生成する吸収バンドがKrFレーザー光発振波長に近いため、KrFレーザー光照射で大きな劣化を起こしたものであることを明らかにした。
大野 新一; 古川 勝敏
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 58(4), p.1100 - 1104, 1985/00
被引用回数：3 パーセンタイル：31.02(Chemistry, Multidisciplinary)重イオン衝撃に特異な化学反応を調べる目的で、ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウムを室温で、ガンマ線,プロトン線,アルゴンイオンビームで照射し、発生気体の分析,スパッタイオンの分析,照射後試料のEPR測定を行い、450keV-1.8MeVエネルギーのアルゴンイオン照射の場合にのみ出現するEPRスペクトル(g=2,線幅100-300G)が交換相互作用するFe
クラスターに基づくことを報告。その形成機構として、イオン衝突により運動エネルギーを得ると同時に内殻励起されたFeが配位子解離を起こすことを考察した。
森山 昇; 土尻 滋; 江村 悟; 須郷 高信; 町 末男
Journal of Nuclear Science and Technology, 12(6), p.362 - 369, 1975/06
被引用回数：17原子力発電所などから排出さえる使用済イオン交換樹脂の処理法として、プラスチック、特にポリエチレンによる溶融固化を試み、得られた固化体について安全上要求される諸物性、すなわち機械的特性、RIの浸出性、耐放射線性について調べた。イオン交換樹脂50wt%を含むポリエチレンの衡撃強度および圧縮強度はそれぞれ、10kg-cm/cmおよび300kg/cm
であり、ポリエチレン単独の固化体と比べて著しい低下は認められなかった。RIの浸出量は非常に少なく1年間で0.1%であり、また放射線による分解ガス量は10
radの吸収線量で10ml/gであった。さらに機械的強度に及ぼす放射線の影響の検討も行った。
戸根 弘人; 山本 克宗; 岡川 誠吾; 横内 猪一郎; 後村 正勝*
JAERI 1204, 11 Pages, 1971/03
この論文の目的はJRR-2およびJMTRの一次冷却水の放射分解を研究し、水分解に与える温度、PH、溶存酸素、過酸化水素の効果をしらべることである。更に、原子炉内で速中性子および
線の混合照射を受けた場合の水分解の正味のG値をもとめ、原子炉の再結合器、脱気装置の設計資料として必要な水分解量をもとめることである。JMTRの水分解に与える温度効果は、次式で表すことができる。Ft=(2.3-2.6
10
t) JRR-2およびJMTRの炉出力1MWあたり比分解量は、炉心の出力密度P(Kw/l)の平方根の函数として次式で表すことができる。Q=§exp(-入P
) gr(H
O)/MW、hr 水分解の正味のG値は、温度50
C、出力50MWのJMTRでは、8.610
20%、JRR-2の10MWでは、8.81020%であった。
Tang, J.*; 小川 修一*; 吉越 章隆; 西本 究*; 石塚 眞治*; 寺岡 有殿; 高桑 雄二*
no journal, ,
Although the oxide decomposition was observed to proceed via void nucleation and subsequent enlargement with SiO desorption and the void growth, it is still not clear what is a trigger to nucleate voids at SiO/Si interface. Recently, we reported that the emission of Si atom caused by the oxidation-induced strain at SiO/Si interface is likely responsible for nucleating voids. In this study, the thermal decomposition kinetics of ultrathin SiO film on Si(001) and Si(111) surfaces have been investigated using real-time X-ray photoelectron spectroscopy with photon energy of 711 eV at JAEA beamline BLSU23, SPring-8 to confirm the void nucleation model.
